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Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

Ruhr-Universität Bochum

Beschreibung

Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt eine DRIE Ätzanlage zu beschaffen, die im Forschungslabor Mikroelektronik Bochum für Wafer-Substrate bis 200 mm Durchmesser eingesetzt werden soll. Sie soll auf dem Gebiet der Silicium-basierten Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) für das tiefe anisotrope Siliciumätzen auf Basis eines zyklischen Ätzprozesses (DRIE, "BOSCH-Prozess") eingesetzt werden und darüber hinaus der Erforschung neuer Ätzkonzepte dienen, die weniger klimaschädliche Ätzgase nutzen.

Auftraggeber
Ruhr-Universität Bochum
Sitz des Auftraggebers
Nordrhein-Westfalen · Bochum
Erfüllungsort
Nordrhein-Westfalen · Bochum
Abgabefrist
—
Veröffentlicht
13. August 2026
Geschätzter Wert
1.024.000 EUR
Verfahren
—
Portal
oeffentlichevergabe.de · TED · evergabe.nrw.de

CPV-Codes

38000000

Bekanntmachung

Die Original-Bekanntmachung auf dem Portal des Auftraggebers.

Quellehttps://oeffentlichevergabe.de/ui/de/search/details?noticeId=b750304c-da88-45ba-b95f-4b3656e001d8&lotId=LOT-0001

Vergabeunterlagen

Die Unterlagen dieser Ausschreibung auf dem Portal des Auftraggebers.

Über den Auftraggeber

Ruhr-Universität Bochum hat derzeit 21 offene Ausschreibungen.

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