Eine Sputter-Abscheidungsanlage, speziell für die Herstellung von qualitativ hochwertigen supraleitenden Dünnschichten

Die EPFL plant in enger Zusammenarbeit mit der Universität Genf (UNIGE) die Anschaffung einer hochmodernen Sputter-Abscheidungsanlage, die speziell für die Herstellung von qualitativ hochwertigen supraleitenden Dünnschichten konzipiert ist. Die Anlage wird im EPFL Center of MicroNanotechnology (EPFL CMi) installiert und betrieben. Das CMi ist eine zentralisierte Einrichtung für die Mikro- und Nanofabrikation, die allen Fakultäten der EPFL dient und sowohl externen Universitäten als auch lokalen Industriepartnern offensteht (über 600 aktive Nutzer pro Jahr). Die neue Anlage wird für Spitzenforschung im Bereich der Einzelphotonendetektoren eingesetzt, mit dem Ziel, die Lücke zwischen der Laborfertigung und der industriellen Produktion zu schließen, indem sie die Abscheidung auf Wafern mit einem Durchmesser von 200 mm ermöglicht. Besonderes Augenmerk wird nicht nur auf die Qualität der Abscheidungen und die supraleitenden Eigenschaften der Dünnschichten gelegt, sondern auch auf die Benutzerfreundlichkeit der Anlagen, deren einfache und schnelle Einarbeitung für neue Nutzer sowie auf ihre flexible, aber dennoch robuste Fähigkeit zur Prozesskontrolle in einem F&E-Umfeld. Ebenso wird großer Wert auf die Nähe und Reaktionsfähigkeit des Lieferanten hinsichtlich des gesamten technischen Supports und der Prozessunterstützung gelegt. Im Einklang mit den Anforderungen der EPFL sowie den wissenschaftlichen Zielen des CMi und der UNIGE wird besonderes Augenmerk auf die folgenden Punkte gelegt: ● Qualität, Reproduzierbarkeit und Gleichmäßigkeit der supraleitenden Dünnschichten. ● Integration mit unseren Infrastrukturen.